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第69章 检测比制造更难(第1页)

周怀义带着路阳四处参观,厂区的基础建设已基本完成,生产车间设备已到大半,明年2月份,1,2号低端制程光刻机可以投产,3,4,5号高端制程光刻机预计在6月份可以投产,至于euV光刻机,只有等专项小组出结果。

“周哥,昨天温天洋跟我提了下,华微有意入股华芯光学,你觉得如何?”路阳问道,对于这方面的把握,周怀义考虑得更加全面些。

思索片刻,周怀义说道:“可以同意他们入股,但最好别以华微的名义,长春光学虽然有技术,但缺少人才储备,我已经派人去协助他们建造镜片的生产线,5条就是他们的极限了。”

路阳想起白学礼的催促,问道:“华芯光学这边是有什么问题吗?选址怎么到现在还没确认下来。”

“这事怪我,本来刚开始计划是在京城的,长春光机所那边的核心技术人员会安排一批过来,毕竟大部分人家都在北方,后来上面考虑在申三角一带建立半导体芯片产业带,元旦半导体协会那边会有动作,开放部分技术,国家也会扶持相关产业。”

周怀义这么一解释路阳立刻明白过来,原来是要围绕华芯打造申三角半导体产业带,这样一来,便可以通过一家巨头拉动整个产业链,逐渐形成生态。

“芯源、中科信、北方华创、睿砺都开始在我们附近选址建厂了,都是做半导体相关设备的企业,申城有意把在松江这边打造成半导体工业园。”

芯源是做涂胶显影的,中科信主要做离子注入扩散,睿砺主要做检测设备,至于北方华创规模要比前三家大得多,业务涉及到薄膜沉积,清洗设备,金属化pVd等。

听到这么多知名企业入局,路阳很是开心,“既然这样,华芯光学就定在松江好了,2ooo亩的面积足够了。”

“地方倒是没问题,不过晶圆厂呢?你也打算建在这边?”周怀义问道,虽然现在还没建造的资金,但他知道路阳肯定是要建造自己的晶圆厂的。

“看情况吧,这事等华芯微电子这边生产线建好再说。”

“也只能如此了,明年商务考察的时间已经确认,就在四月中旬,留给我们的时间不多,出之前,至少要把9o纳米的光刻机制造出来才行。”

“9o纳米?上面允许出口?”路阳问道。

周怀义点了下头,“9o限量出售,主要还是以低端制程的光刻机为主,元旦后商务部与半导体产业协会会在申城联合举办产业展论坛,到时你要出席。”

路阳自是不会拒绝上面的安排,这次论坛主要目的便是让华芯转让出部分技术,同时还可以获得部分资金。

接着又简单把海思那边的进度给周怀义介绍了下,“按照这个度,节前应该能组装出来。”

“你还是要注意些,别说漏嘴了,该保密的还得保密,何洪年可信,但3oo多人不能保证所有人都不会出问题。”

确认好华芯光学的事,路阳驱车回申城,海思那边在镜片运到之前都不需要过去了。

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申城微电子,柴文政与丁冉到这边已经一个月时间了,虽然镜片的事已经完成,但光学系统还需两人负责,第一批镜片已经运到,这两天正在考虑如何实验的事。

原计划是要等到实验机完成组装,才能测试,但两人却想早些测试这批镜片是否能实现对应的功能。

光路布置的软件是聊老安排人开的小程序,利用这个小程序,两人最近已经设计了几十种方案。

但实际情况下,每次镜片的反射,都会损失3o%的光能,主要还是极紫外光太容易被吸收了,连空气都可以把它吸收完,所以实验必须在真空条件下进行。

“我们可以制造一个真空环境,先测试镜片的反射强度与吸收光能的比例。”丁冉说道,每天都在电脑上设计光路,不能开展实验,对他们来说心里没底,现在镜片到了,她非常心动。

柴文政摇摇头,说道:“现在的问题是光源,不击打液态金属锡,根本无法产生13。5纳米的极紫外光,你直接使用193纳米的极紫外光测试没有意义。”

“为什么没有意义呢?我们可以通过数据来推演啊。”丁冉仍然坚持着。

“193的极紫外光跟13。5完全是两码事,用什么模型来推演,算法是什么,依据又是什么?”

“可要等到计算组那边出结果,不知道还要有多久,每秒5万次,想想都觉得这中间的难度之大。”丁冉情绪低落,计算组那边迟迟不见进展。

柴文政叹了口气,“听说廖老已经安排人去申请算了,除了等待也没其他办法。”

“计算组那边大部分都是来自华科院的人,为了解决这个问题,已经把模型拆分,返给华科院的同事们协助计算,好像还请了各高校的数学家协助计算。”丁冉自顾自说,计算组那边已经是华国的顶级团队了。

“以计算组的实力,出结果是早晚的问题,我担心的反而是设备组是否能跟得上,这种微观级别的操作,算法与设备精度必须要匹配才行,我现在终于知道为什么asmL一点也不担心图纸外泄的问题了,我们在精密设备上距离国外的水平还很远。”

柴文政的担心并非没有道理,设备组那边到现在仍然还有部分关键零部件没有采购到。

核心问题还是euV镜头组与duV完全不一样,所有人都是在摸着石头过河,理论与实际操作的差异在这方面完全被无限放大了,而且检测系统方面,还有更大的问题。

与电脑程序的bug不同,只要不影响程序的运行,软件公司是允许bug存在的。

但光刻机完全不行,哪怕是纳米级的微小错误,都会让整个生产批次报废,所以能快检查,实时现错误并修正也是光刻机的另一大技术壁垒。

asmL为此还收购了一家光学检测的公司,通过检测晶圆射的光斑来收集大量实时产生的数据实现快检测。

所以业内也常有人说,检测比制造更难!

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